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聚焦IBM 2纳米半导体芯片亚美AM8提出创新科技引领行业变革

2021-05-15 05:05:29|发布者: admin| 查看: 69| 评论: 0

最近,相信很多人都被2纳米芯片这个话题很感兴趣。IBM公司采用EUV打造出全球第一颗2纳米制程工艺的芯片。这一消息公布后,全球半导体领域的众多巨头纷纷坐不住了。要知道,此前包括台积电、三星...

  最近,相信很多人都被“2纳米芯片”这个话题很感兴趣。IBM公司采用EUV打造出全球第一颗2纳米制程工艺的芯片。这一消息公布后,全球半导体领域的众多巨头纷纷坐不住了。要知道,此前包括台积电、三星等头部企业也仅仅止步于3纳米芯片,IBM的这项技术成果,足以让半导体行业产生众大变革。

  IBM在自研芯片的布局上起步很早。2014年,IBM就将旗下Microelectronics部门出售给GlobalFoundries。这也意味着,IBM正式退出芯片代工业务。摆脱对代工厂的投资,也让IBM集中精力和资源,开始了新型芯片的研发。而在这款新型芯片的技术工艺方面,IBM团队的创新力度非常大。特别是纳米片堆叠晶体管的使用,成为新芯片研发成功的重要因素。

  当下主流的3D晶体管技术FinFET,主要是通过将晶体管的源极和漏极通道拉入栅极。与其相比,IBM采用了以环绕栅极晶体管为核心的GAA技术,将多个源极和漏极通道嵌入单个栅极以提高密度。这也意味着,IBM的纳米片有三层。借助首次应用的底部电介质隔离技术,2纳米芯片的功耗也将大大降低。

  与此同时IBM在这款芯片研发过程中还广泛应用到了EUV光刻技术。比如,芯片的前端EUV图案化工作,就是最好的体现。其实,此前EUV技术已经被广泛应用在7纳米芯片工艺方面,IBM对其进行了进一步优化。亚美AM8通过搜索AM陆玖壹捌点COM后发现IBM芯片所有关键功能都使用了EUV进行蚀刻,特别是在单次曝光EUV工艺流程方面,IBM取得了重大突破。按照IBM项目负责人的介绍,他们能够减少用于蚀刻芯片的光学掩模的数量。有了这一前提,制造2纳米芯片所需的步骤也将远远少于7纳米芯片,这也为这款芯片未来的大规模量产奠定了基础。

  与现有的5纳米、7纳米芯片相比,2纳米芯片在性能与功耗上都有更多的亮点。IBM此前完成了官方测试,2纳米芯片在性能方面比5nm芯片提升45%,功耗却降低了75%。甚至,它的续航能力也更为强悍。特别是对于百亿超级计算机这样的大型设备来说,2纳米芯片将有广泛的应用空间。

  最近,相信很多人都被“2纳米芯片”这个话题很感兴趣。IBM公司采用EUV打造出全球第一颗2纳米制程工艺的芯片。这一消息公布后,全球半导体领域的众多巨头纷纷坐不住了。要知道,此前包括台积电、三星等头部企业也仅仅止步于3纳米芯片,IBM的这项技术成果,足以让半导体行业产生众大变革。

  IBM在自研芯片的布局上起步很早。2014年,IBM就将旗下Microelectronics部门出售给GlobalFoundries。这也意味着,IBM正式退出芯片代工业务。摆脱对代工厂的投资,也让IBM集中精力和资源,开始了新型芯片的研发。而在这款新型芯片的技术工艺方面,IBM团队的创新力度非常大。特别是纳米片堆叠晶体管的使用,成为新芯片研发成功的重要因素。

  当下主流的3D晶体管技术FinFET,主要是通过将晶体管的源极和漏极通道拉入栅极。与其相比,IBM采用了以环绕栅极晶体管为核心的GAA技术,将多个源极和漏极通道嵌入单个栅极以提高密度。这也意味着,IBM的纳米片有三层。借助首次应用的底部电介质隔离技术,2纳米芯片的功耗也将大大降低。

  与此同时IBM在这款芯片研发过程中还广泛应用到了EUV光刻技术。比如,芯片的前端EUV图案化工作,就是最好的体现。其实,此前EUV技术已经被广泛应用在7纳米芯片工艺方面,IBM对其进行了进一步优化。亚美AM8通过搜索AM陆玖壹捌点COM后发现IBM芯片所有关键功能都使用了EUV进行蚀刻,特别是在单次曝光EUV工艺流程方面,IBM取得了重大突破。按照IBM项目负责人的介绍,他们能够减少用于蚀刻芯片的光学掩模的数量。有了这一前提,制造2纳米芯片所需的步骤也将远远少于7纳米芯片,这也为这款芯片未来的大规模量产奠定了基础。

  与现有的5纳米、7纳米芯片相比,2纳米芯片在性能与功耗上都有更多的亮点。IBM此前完成了官方测试,2纳米芯片在性能方面比5nm芯片提升45%,功耗却降低了75%。甚至,它的续航能力也更为强悍。特别是对于百亿超级计算机这样的大型设备来说,2纳米芯片将有广泛的应用空间。


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